9月28日，芯碁微装透露了公司130-90nm制版光刻机设备的研发成果。该设备具有多种技术优势，最小线宽可达350nm，CD均匀性为10%，产能高达120min/片。2023年，公司完成了90nm技术节点制版应用的研发，首台光刻机设备即将交付客户验证。这些参数表明，该设备具有高精度、高稳定性和高效率的特点，将能够满足客户在集成电路、微电子、半导体等领域对高质量、高性能芯片的需求。

据了解，芯基微安装于2023年完成了90nm技术节点制版应用的研发。这是公司光刻设备技术的重大突破，标志着芯基微安装在光刻设备领域的技术实力达到了一个新的水平。第一台设备即将交付给客户进行验证，这不仅是对芯基微安装技术水平的认可，也将为公司带来更多的商机。

展望未来，新基微安装将继续专注于光刻设备技术的研发和创新，不断提高设备性能和生产效率，加强市场推广，扩大产品应用范围。此外，公司还将继续关注行业的发展趋势，积极拓展新兴领域，以满足不断变化的市场需求，为客户提供更好、更全面的服务。

简而言之，作为一家专业从事光刻设备研发和生产的企业，凭借其优秀的技术团队、丰富的行业经验、完整的生产设施和良好的产品质量，在市场上建立了良好的声誉。公司130-90nm制版光刻设备的研发成果和90nm技术节点制版应用的成功研发，将进一步巩固芯基微安装在光刻设备领域的领先地位，为公司的可持续发展注入新的动力。在此过程中，芯基微装饰始终坚持以客户需求为导向，不断创新，努力为全球集成电路、微电子、半导体等行业的快速发展做出更大的贡献。

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