9月28日消息，芯碁微装透露了公司130-90nm制版光刻机设备的研发成果。这款设备具备多项技术优势，最小线宽可达350nm，CD均匀度为10%，同时产能高达120min/片，2023年公司已完成了90nm技术节点制版应用的研发，首台光刻机设备即将交付客户验证。这些参数表明该设备具有高精度、高稳定性和高效率的特点，将能够满足客户在集成电路、微电子、半导体等领域对于高品质、高性能芯片的需求。 据了解，芯碁微装在2023年已经完成了90nm技术节点制版应用的研发。这是公司光刻设备技术的一大突破，标