9月28日消息，芯碁微装透露了公司130-90nm制版光刻机设备的研发成果。这款设备具备多项技术优势，最小线宽可达350nm，CD均匀度为10%，同时产能高达120min/片，2023年公司已完成了90nm技术节点制版应用的研发，首台光刻机设备即将交付客户验证。这些参数表明该设备具有高精度、高稳定性和高效率的特点，将能够满足客户在集成电路、微电子、半导体等领域对于高品质、高性能芯片的需求。 据了解，芯碁微装在2023年已经完成了90nm技术节点制版应用的研发。这是公司光刻设备技术的一大突破，标

红外伪装技术是指隐藏或改变目标红外辐射特征的技术，对于提高目标的生存率具有重大意义。多波段探测技术的发展，给传统的红外伪装技术带来了严峻的挑战，使得多波段兼容红外伪装材料的研究变得十分紧迫。 据麦姆斯咨询报道，近期，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室和光电科学与工程学院和西湖大学工学院的科研团队在《激光与光电子学进展》期刊上发表了以“多波段兼容红外伪装技术研究进展”为主题的文章。该文章第一作者兼通讯作者为李强。 本文首先须厘清各波段的伪装要求，其次应合理利用各波段材料电磁响应的不同和结构