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9月28日消息,芯碁微装透露了公司130-90nm制版光刻机设备的研发成果。这款设备具备多项技术优势,最小线宽可达350nm,CD均匀度为10%,同时产能高达120min/片,2023年公司已完成了90nm技术节点制版应用的研发,首台光刻机设备即将交付客户验证。这些参数表明该设备具有高精度、高稳定性和高效率的特点,将能够满足客户在集成电路、微电子、半导体等领域对于高品质、高性能芯片的需求。 据了解,芯碁微装在2023年已经完成了90nm技术节点制版应用的研发。这是公司光刻设备技术的一大突破,标
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