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近日，英特尔公司展示了一台全新的EUV光刻机，这台光刻机不仅被誉为有史以来最昂贵的光刻机，而且其惊人的规模和性能也引起了全球半导体行业的广泛关注。据悉，这台光刻机高达3.5亿欧元，重量约为150吨，堪称行业内的“巨无霸”。 这台光刻机是由荷兰ASML公司在其总部向媒体公开展示的最新一代High-NA EUV光刻机。High-NA EUV光刻机在半导体制造领域具有举足轻重的地位，尤其是在2nm及以下先进制程的制造中，它几乎成为了必备的“武器”。尽管其性能先进，但价格却令人咋舌，而且安装过程也相当

近日，据路透社及多家外媒报道，全球光刻机领域的领军企业——荷兰ASML公司正计划将其总部从荷兰迁离。这一消息引发了业界广泛的关注和猜测，特别是关于ASML未来的落户地点，法国成为备受瞩目的选项之一。 据了解，ASML之所以考虑撤离荷兰，主要是受到荷兰国内日益激进的“反移民政策”的影响。近年来，荷兰政坛上的一些声音主张加强移民管控，限制外籍人士在荷兰的权益。威尔德斯等政治人物多次表示，若其执政，将会采取一系列措施来遏制移民，包括限制海外留学生的数量、减少外籍人士的税收减免等。 ASML对此表示了

2月29日，据SPIE光刻会议上的消息，英特尔技术开发负责人Ann Kelleher宣布，他们在ASML的新型高数值孔径（High NA）EUV光刻机上实现了“初次曝光”的重要里程碑。ASML也对此进行了证实，并透露接下来将对该系统进行深入的测试和调整，以充分发挥其性能潜力。 什么是“初次曝光”？ “初次曝光”指的是光刻系统首次成功将光线图案精确投射到晶圆上。这不仅是技术验证的关键一步，也标志着该光刻系统已经完成了其基本功能，为进一步的测试和优化打下了坚实基础。 此次进展的意义何在？ 高数值孔

芯片是半导体中的积分器，目前芯片的利用率很高，要想在技术领域有所突破，就必须在芯片领域发展。在芯片制造中，最受关注的是光刻机的发展。到目前为止，我国光刻机制造领域还比较缺乏机械。我们的光刻机技术相对落后。为了有更好的发展，我们只能从国外引进管子技术来满足生产。虽然与那些没有芯片开发技术的国家相比，我们已经很好了，但是与荷兰这个技术强国相比，制造技术的差距还是比较大的。主要区别是什么？ 这台光刻机的技术发展领域非常先进。此外，荷兰公司在很多方面都有支持，因此光学技术机器的研发也有了巨大的进步。他